您现在在的位置: 首 页>新闻动态>正文                                            发布时间:2019-01-14    出处:国际合作与交流处    点击:1008次

国际处景晓军处长荣获2018年度中国产学研合作创新与促进奖一等奖


    我校景晓军教授科研团队主持完成的“离子束溅射沉积薄膜系统的研制与应用”项目荣获中国产学研合作创新成果奖一等奖并上台领奖。该项目是研究及制造高端微、纳米薄膜,薄膜新材料研究等行业必备的核心技术,是现在高端非硅芯片的重大装备的基础。其技术的指标参数接近国际一流水平,填补了国内该行业的空白。它是国内声,光,电,磁,MEMS,芯片,传感器,新材料等诸多行业高端新产品的创新及提升所需的核心技术。该获奖项目生产出的设备(芯片)已服务于国内高端制造业和众多企业。其价格仅是国际同类一流设备的十分之一,完全是自主知识产权,打破了国外的垄断。

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